天恒科儀 G07 天恒科儀 對準光刻系統

可以直接在各種有機物上，例如：PMMA、ABS或其他有機材料上進行光刻，成為MEMS、微流控、生物工程和生命科學等研究領域的理想工具。

憑借光源技術與極簡操作為實驗室和小型生產環境提供一種易于使用的高精度光刻解決方案。

搭載專有紫外光源（172nm/222nm/308）突破傳統光刻工藝限制。

可直接在PMMA、ABS、PDMS、纖維素酯（CA/CAB） 等有機材料表面實現高精度圖形化，無需預先涂覆光刻膠。

桌面式設計（205×230×400mm）與模塊化結構，無需超凈環境，開機即用。系統內置精密機械結構，長期免維護校準，顯著降低使用門檻。

支持軟接觸/硬接觸兩種曝光模式，適配不同材質需求，確保圖形轉移一致性

對準裝置核心部件是自動調節的z-stage，確保樣品與掩膜表面緊密對接，從而提升分辨率并減少缺陷。

采用手動調節位移臺和自調平chuck盤以及配備可調節的數碼電子顯微鏡，使操作更加簡單并加快對準速度。

同時系統還配備壓縮空氣和真空供應，對樣品進行吸附固定以及實現實驗樣品與掩膜版的緊密接觸，便于更加準確高效的完成對準操作。

高分辨率對準和曝光系統：

? 小型、桌面式經典設計、高精度、高穩定性、操作方便

? 擴展光刻膠和襯底的材料范圍，打破傳統光刻工藝的限制

? 一致的、高質量的曝光結果，零培訓、無基礎即可操作

?無需超凈間、任何地點都可以光刻；低功耗、可選電池供電

?搭建即可運行，牢固的機械結構和光學器件，無需額外維護和校準