無掩模光刻機 主動對焦 直接繪圖

無掩模光刻機 主動對焦 直接繪圖產品介紹

托托科技無掩模紫外光刻機，無需掩模版即可完成高精度圖案化光刻，適用于科研、定制化生產、快速原型及微電子、生物醫療、光學元件等領域的微納加工。

一、核心技術與性能

1. 技術路線

- DMD無掩模光刻：通過數字微鏡裝置控制光束投影，適合大面積快速圖案化曝光。

2. 關鍵指標

- 加工精度：Z高300 nm（0.3 μm），常規可達1 μm。

- 加工速度：Z高1200 mm2/min。

- 加工幅面：Z大可達4 m2，支持晶圓級至超大幅面加工。

- 灰度光刻：支持4096階灰度，可制作復雜三維形貌結構。

二、核心功能

- 無需掩模版，省去制版成本與時間，靈活快速迭代設計。

- 綠光指引光精準套刻，支持多層套準。

- 主動對焦，保證曝光聚焦清晰。

- 直接繪圖、陣列參數測試，快速驗證工藝與設計。

三、產品系列

1. 科研版（Academic）

- 幅面：6英寸

- 最小特征尺寸：0.4 μm

- 支持步進/掃描光刻、電動鏡頭切換、光學主動對焦

- 數據格式：GDS、DWG、DXF

2. 高速版（Speed）

- 幅面：8英寸

- 最小特征尺寸：0.3 μm

- 掃描式光刻，效率更高

- 套刻精度Z高可達250 nm（5 mm×5 mm）

3. 教育版（Young）

- 桌面型，2英寸幅面

- 最小特征尺寸：1.5 μm

- 適合教學實驗與基礎研發

4. 生命科學版（Life sciences）

- 桌面型，2英寸幅面

- 適配SU-8超厚膠，支持高深寬比光刻

- 面向微流控芯片快速研發

- Z大膠厚可達400 μm

四、無掩模光刻機 主動對焦 直接繪圖典型應用領域

- 二維材料電極制備

- 微流控芯片（高深寬比結構）

- MEMS器件

- 微透鏡、光學衍射器件、光柵、菲涅爾透鏡

- 浮雕防偽結構

- 超表面、量子光學光波導

- 掩模版小批量定制制造