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    天津市金貝爾科技有限公司

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    Micromeritics ICCS 催化劑表征

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    更新時間:2026-03-03 15:50:20瀏覽次數:44

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    無需將催化劑從反應器中取出,即可進行脈沖化學吸附和溫度程序分析 (TPx)。 高靈敏度熱導檢測器 (TCD),用于監測進入和流出反應器氣體濃度的變化 內部冷阱用于去除可冷凝液體(例如,氧化物還原過程中產生的水)

    概覽

    Micromeritics ICCS 原位催化劑表征系統是一種工具,允許用戶在精確控制且具有代表性的工藝條件下,研究反應對關鍵參數(如活性位點數量)的影響。

    ICCS 是一款獨立配件,旨在補充任何動態實驗室反應器系統,例如 Micromeritics Flow Reactor,并新增了兩項新功能:溫度程序分析 (TPx) 和脈沖化學吸附。

    這些廣為人知、久經驗證的技術如今可用于新鮮催化劑,并可在使用后的催化劑上重復進行,無需將材料從反應器中取出。這使得催化劑的詳細對比成為可能,尤其是在使用前后活性位點數量方面。用戶可從用于反應研究的同一份樣品中獲得溫度程序分析和脈沖化學吸附數據。

    在原位執行這些分析幾乎可以消除來自空氣中氣體和水分的污染,這些污染可能會損害活性催化劑并影響數據完整性。

    PID 于 2018 年加入 Micromeritics,并將其包括 ICCS 在內的技術整合進產品組合。2025 年,Micromeritics 與 PID 加入 Malvern Panalytical,將這些儀器納入該集團的材料表征解決方案中。

    功能與優勢

    • 兩個高性能質量流量控制器,實現精確、全自動的氣體流量控制,以支持 TPx 和脈沖化學吸附分析

    • 全封閉原位測試,支持使用同一樣品對同一催化劑進行多次表征

    • 高精度熱導檢測器 (TCD),實時監測流入和流出樣品反應器的氣體濃度變化

    • 觸摸屏、直觀的軟件和圖形界面,實現簡便流暢的操作,并便于直觀地查看與操控警報、命令與控制參數

    • 溫控不銹鋼流路,可提供惰性且穩定的運行環境,并降低冷凝風險;兩個內部溫控區域可獨立控制

    • 內部冷阱配備額外溫控區域,用于去除可冷凝液體(例如氧化物還原過程中生成的水)

    • 超低體積流路,限度減少峰展寬并顯著提高峰分辨率

    • 耐腐蝕檢測絲,長期兼容常用 TPx 和脈沖化學吸附氣體

    • 交互式峰值編輯器工具包,幫助研究人員輕松將數據轉化為信息;僅需點擊即可調整峰值邊界

    操作原理

    ICCS 的典型操作流程始于將催化劑裝入反應器系統。隨后可通過溫度程序方法對催化劑進行表征:

    • 溫度程序還原 (TPR) 通常用于負載型金屬催化劑
    • 溫度程序脫附 (TPD) 可能是酸性或堿性催化劑的

    TPx 之后通常接續進行脈沖化學吸附,以測定活性位點數量。結合使用 TPx 和脈沖滴定可在代表性條件下(尤其是在高壓下)對新鮮(未使用)催化劑進行特性分析。

    完成初步表征后,用戶可繼續使用同一樣品開展反應研究,無需添加額外催化劑或轉移至其他設備。

    催化劑失活或經過長時間測試后,可采用 TPx 和脈沖化學吸附技術,在相同條件下對使用后的催化劑進行分析,分析方式與新鮮材料相同。該策略提供了一種方法,無需將催化劑從反應器中取出,即可比較其使用前后的關鍵特性,例如活性位點數量。

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