目錄:華兆科技（廣州）有限公司>>半導(dǎo)體設(shè)備>>原子層沉積設(shè)備ALD>> PlasmaPro ASP ALD原子層沉積系統(tǒng)
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更新時(shí)間：2026-03-05 10:46:30瀏覽次數(shù)：21評(píng)價(jià)
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PlasmaPro ASP ALD原子層沉積系統(tǒng)基于經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的企業(yè)/專(zhuān)業(yè)研發(fā)平臺(tái)，旨在形成可集成到器件中的優(yōu)質(zhì)薄膜。它足夠靈活，可以進(jìn)行多種化學(xué)反應(yīng)，并可實(shí)現(xiàn)高速、高質(zhì)量的薄膜沉積。其中，我們優(yōu)良的等離子體增強(qiáng)型原子層沉積（ALD）系統(tǒng)提供了原子層沉積的靈活性、一致性和可調(diào)性，以快速實(shí)現(xiàn)更高產(chǎn)量和更厚的薄膜。
PlasmaPro ASP ALD原子層沉積系統(tǒng)特點(diǎn)：
擁有高速遠(yuǎn)程等離子體源
- 高密度、均勻的自由基和低離子能量，可實(shí)現(xiàn)低損傷、快飽和
- 采用 PLC 和 AMU 控制，可實(shí)現(xiàn)快速處理
擁有優(yōu)秀的前驅(qū)體和工藝控制
- 多達(dá)6種前驅(qū)體(鼓泡或蒸汽吸取)
晶圓電極
- 適用于帶偏壓的200毫米晶圓電極
- 沉積溫度最高可達(dá)400°C
- 擁有200°C 的加熱內(nèi)腔
控制系統(tǒng)
- 易于維護(hù)，簡(jiǎn)化布線
- 改進(jìn)了服務(wù)診斷功能
- 集成電子元件
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