2026 實驗室儀器選型指南:顯微、原位、清潔度、原子制造一站配齊

近年來，實驗室建設的重點正在從“補齊設備”轉向“完善能力結構”。二維觀察已難以滿足復雜材料研究需求；單一表征手段越來越難解釋多尺度問題；單純檢測能力，也無法支撐高水平的材料設計與工藝優化。對于高校科研和企業研發部門而言，儀器選型不僅影響實驗效率，更直接影響研究深度與技術轉化節奏。本文將圍繞四大技術模塊，梳理 2026 年值得關注的實驗室能力方向與選型思路。

PART ONE  顯微成像

顯微成像技術已經不再只是展示材料表面形貌的工具，而是理解微觀結構與功能關系的基礎平臺。

01  Phenom 飛納臺式掃描電鏡

2025年，飛納電鏡產品全面升級迭代，持續為中國 2500+ 用戶帶來更智能、更高效、更可靠的顯微分析體驗！覆蓋數百所高校、中科院等科研院所、政府機構，以及新能源、生命科學等多個工業領域。應用研究涵蓋金屬與合金、電池、地質與考古、高分子材料、靜電紡絲、陶瓷與復合材料、生物醫學、微生物等多個前沿與交叉學科。

飛納電鏡采用臺式一體化設計，具備防震能力，對安裝環境要求低。操作流程高度簡化，適配不同經驗層級的用戶。同時，飛納電鏡支持拓展 EBL 功能，自主編程功能，原位拉伸/壓縮功能，原位加熱/冷凍功能，樣品真空轉移等，亦可進行定制化滿足科研與工業應用的多樣化需求。

值得一提的是，Phenom AI 智能掃描電鏡，支持全流程自動成像和自由編程（PPI）功能（適配所有飛納型號），為微觀世界的探索帶來了自由度和無限可能。

02  Technoorg Linda 離子研磨儀

Technoorg Linda SEMPREP SMART 配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。用于掃描電子顯微鏡（SEM）和電子背散射衍射（EBSD）樣品的最終加工和清潔。離子加工可以改進和清潔機械拋光的 SEM 樣品，并為 EBSD 分析制備無損表面。

產品特點：

• 氬離子束無應力處理樣品

• 定位精準：可實現 ±1 微米

• 離子槍能量：0-16kV

• 超大樣品腔室：可容納直徑 50mm 樣品

• 制冷設計：液氮 LN₂ 制冷

• 可選配真空轉移功能

03  Neoscan 高分辨顯微CT

NEOSCAN 臺式顯微 CT 經過四十年技術沉淀，以精密機械結構與智能圖像重建算法為核心，在臺式機體積下實現高達 40nm 的像素分辨率，高性能三維無損成像的特性受到眾多高校科研與企業用戶青睞！它無需切割或制備即可直接觀察材料和生物樣品內部結構，一次掃描即可獲得形貌、裂紋、孔隙、界面及定量信息。

產品特點

• 性能出眾：臺式納米 CT，最小體素尺寸高達 40nm !

• 為大尺寸、高密度物體設計，輕松掃描 32*54 cm 超大樣品！

• 臺式設計，不挑安裝環境，操作簡單，便于設備安裝使用

• 閉管透射式 X 射線管設計，無需抽真空，無需定期換燈絲，設備免維護

• 軟件免費，整合了掃描、重構、計算、輸出模型等多種功能

• 選配件豐富，可選配力學樣品臺、溫控樣品臺、自動進樣系統、XRF成分分析系統等

04  原子力顯微鏡系列

1  AFM-SEM 聯用

2  ICSPI 原子力顯微鏡

ICSPI 在原子力顯微鏡系統設計、探針控制與納米級表征技術方面擁有深厚的技術積累。其 AFM 產品以高穩定性、高重復性及靈活的模塊化架構著稱，廣泛應用于半導體器件表征、薄膜與納米材料研究、精密表面形貌分析等領域。

PART TWO  透射電鏡原位分析

材料性能往往來源于動態過程。DENSsolutions 原位樣品桿，使研究者可以在加熱、電場或氣氛環境下觀察結構變化，配合 Technoorg Linda TEM 精修設備，可以提高樣品質量與實驗穩定性。原位技術的價值，在于讓研究更貼近真實工作狀態。

01  DENSsolutions TEM 原位樣品桿

DENSsolutions 作為原位 TEM 領域的品牌，憑借高穩定性芯片與完整的加熱、熱電、氣相、液相和冷凍解決方案，為原位實驗提供高可重復性與定量控制，目前已應用于國內 100 余所高校和科研院所。

產品特點：

• 研發實力強，技術團隊來自代爾夫特理工大學

• 高精度動態環境控制，引入氣體、液體、熱、電、冷凍等環境刺激

• 模塊化設計，配置靈活，便于清理、替換以及跨平臺表征

• 芯片獨特性，MEMS 設計是其核心技術

• 在動態實驗條件下保持高分辨率成像并且允許實時觀察和分析

02Technoorg Linda TEM 樣品制備

Technoorg Linda 的離子減薄儀、離子精修儀配備了超高能離子槍和低能離子槍，通過控制離子束的能量和角度，可對樣品進行快速研磨及表面精細加工和最終拋光。

PART Thre  清潔度

在鋰電、汽車、鋼鐵與半導體等制造領域，微米級顆粒與非金屬夾雜物已成為影響可靠性、良率與產品壽命的關鍵因素。清潔度不再只是檢測項目，而是企業核心競爭力的重要組成部分。

鋰電清潔度

鋰電池中的銅、鋅、鐵等金屬異物可能導致嚴重的安全事故，對金屬異物的管控也已成為行業共識。飛納電鏡 ParticleX Battery 全自動鋰電清潔度分析系統，基于掃描電鏡 + 能譜法可自動識別、分析和統計銅、鋅、鐵等金屬異物，進而幫助分析異物來源，改善生產條件，減少安全事故的發生。 

汽車清潔度

PART Four  原子制造

近年來，材料性能的突破越來越依賴界面調控與納米尺度結構設計。傳統宏觀工藝已難以滿足對精度與一致性的要求，研究與研發的重心逐漸下沉至原子與納米尺度。復納原子制造產品線聚焦新型原子層沉積（ALD）與納米沉積打印技術方案，賦能微納產業前沿發展。

ALD 產品線

01  Forge Nano 粉末原子層沉積系統

表面包覆作為提升粉末物理化學性能的重要手段，長期以來一直缺乏有效的精密手段。與傳統的表面改性不同，PALD 是真正可以實現原子級/分子層級控制精度的粉末涂層技術，并保持良好的共形性。Forge Nano 經過多年研發，已經開發出低成本的規模化粉末原子層沉積包覆技術，目前已廣泛應用于鋰電、催化、金屬、制藥等領域。

納米沉積打印產品線

01  VSParticle 干法納米沉積打印系統

VSParticle 是一家納米材料制造創新企業，憑借火花燒蝕與干法沉積平臺，實現了高質量、可定制化的納米結構材料的規模化制備。其技術已廣泛應用于能源存儲、傳感器、催化等領域。

02  Tera Print 桌面式無掩模蘸筆光刻/打印系統

Tera Print 桌面光刻系統采用光束筆光刻技術（BPL），高度并行、無需光刻掩模，它克服了衍射極限，能夠在平方厘米區域內快速創建任意圖案，特征分辨率低至 250nm。作為桌面納米光刻打印機，比以往更快更經濟地原型制造和生產納米結構表面與器件。結合了 DMD 無掩模光刻/聚束筆光刻/打印的新一代桌面式微納制造系統，可將線寬控制低至 250nm。

產品特點

• 精密多波長光學器件：高功率均勻照明，紫外至可見光自由定制

• 亞衍射分辨率 < 250 納米，微米級圖案 >1.25 微米輕松實現

• 智能數字光掩模：任意圖案化，納米至厘米級設計即改即用

• 高效自動對準：快速重復定位，實現均勻圖案表面

• 輕松控制：直觀操作，幾小時即可掌握全程納米加工