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Nanoscribe上海Quantum X微納加工示范實驗室正式啟用，引領中國邁入新一代3D微制造時代
2026年01月16日 10:15:32
來源：化工儀器網 作者：宋池 點擊量：7233
Nanoscribe于2025年12月26日在上海正式啟用Quantum X微納加工示范實驗室，推出Quantum X align雙光子光刻系統。該系統的揭幕是Nanoscribe深耕中國市場、推動本土微納制造技術創新與產業升級的重要里程碑。
2025年12月26日，全球高精度增材制造領導者Nanoscribe在中國上海正式啟用其全新Quantum X微納加工示范實驗室。此次揭幕的Quantum X align系統，標志著該公司革命性的“對準式雙光子光刻技術”首次在中國開放實踐體驗?；顒訁R聚產學研界權威專家，生動展現了Nanoscribe深耕中國市場的堅定承諾與創新布局。
當日，Nanoscribe上海子公司以專題研討會的形式，為與會嘉賓呈現了一場技術盛宴。來自產業界與學術界的領軍代表親臨現場，深度觀摩全新投用的Quantum X align系統，并就微納制造的前沿趨勢與落地應用展開了熱烈交流。這一重要里程碑不僅彰顯了Nanoscribe在中國本土化服務的升級，更為國內精密制造領域的技術突破注入了國際領先的創新動能。
上海全新示范實驗室的核心設備是Quantum X align高精度雙光子光刻系統。該系統支持在光纖、芯片與晶圓表面實現自動化對準，為高分辨率三維微納結構制造提供完整的解決方案，展現了納米級增材制造技術的前沿突破。
深耕中國市場的戰略里程碑
Nanoscribe 聯合創始人兼首席執行官 Martin Hermatschweiler 通過線上形式從德國卡爾斯魯厄總部發表致辭，強調了中國市場在 Nanoscribe 全球戰略中的核心地位。他表示，“上海Quantum X示范實驗室的落成，是我們持續賦能中國科技創新生態的重要舉措。中國在光子集成、先進光學與精密制造領域的快速發展，與Nanoscribe以技術推動產業升級的愿景高度契合。”
他進一步強調：“通過將高通量雙光子光刻系統引入本地，我們能夠幫助客戶顯著縮短從研發到量產的周期，切實支撐‘實驗室到產線’的技術轉化，為中國前沿科技領域的高質量發展提供關鍵制造能力。”
以專有技術突破微制造邊界?
Nanoscribe中國區總經理崔萬銀博士在技術報告中系統闡釋了Quantum X align如何通過自主核心技術應對高精度微制造的挑戰：
- 雙光子灰度光刻技術(2GL®)在單次掃描中實現像素灰度連續調控，在保持亞微米級分辨率的同時，將制造效率提升10–60倍，并結合超過4000級灰度控制實現卓越的形狀精度，為復雜微光學元件與功能性表面的高效率制備提供工藝基礎。
- 對準雙光子光刻技術(A2PL®)支持在預制基底(包括光纖端面、光子芯片與晶圓)上進行三維結構直寫，定位精度達100納米，顯著降低光子器件耦合損耗，為集成光子封裝與半導體異質集成提供高精度對準解決方案。
?技術研討與與場景化演示
本次活動同時舉辦了微納制造前沿技術研討會。來自科研機構與產業界的專家圍繞光子集成、智能超表面、X射線光學與AI輔助微納設計等方向，分享了最新進展。
亞太區服務經理朱玉芳通過現場實機演示，呈現了Quantum X align在制備光學級表面(Ra ≤ 10 nm)與高形貌精度結構(Sa ≤ 200 nm)方面的穩定性能，驗證了該系統在光通信、人工智能硬件與高端醫療器械等領域的應用成熟度。
上海Quantum X示范實驗室正式啟動?
實驗室將面向客戶與合作伙伴開放，提供專業的設備演示與定制化培訓服務，助力用戶深度評估設備加工能力與應用潛力。
Nanoscribe期待與產業鏈各界攜手，通過微納制造技術創新，共同推進光學、半導體、生物醫療等領域的設備研發與工藝突破，賦能中國高科技產業的自主發展路徑。
關于 Nanoscribe?
Nanoscribe是高端微納尺度增材制造的技術領導者與市場開拓者。公司專注于基于專利雙光子聚合(2PP)技術的三維光刻系統、灰度直寫設備及相關功能性材料，為科研與工業客戶提供覆蓋納米至介觀尺度的微制造完整解決方案。
公司成立于2007年，源自卡爾斯魯厄理工學院，2024年12月成為Lab14集團成員。Nanoscribe在全球擁有超過150項專利，在德國、美國與中國設有分支機構，其系統已支持全球眾多科研機構與企業用戶取得技術突破，累計助力超過2100篇經同行評審的高水平研究成果發表。
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