MDA-400LJ/600LJ光刻機
光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優秀的技術、工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。
MDA-400LJ/600LJ光刻機產地:韓國MIDAS公司,唯1能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-400LJ/600LJ光刻機 光刻機
MDA-400LJ/600LJ光刻機
操作安裝方便,可處理各種尺寸的基板,采用UV-LED曝光模塊,UV-LED壽命長
•手動操作
•掩模版尺寸達5英寸
•基板尺寸為4英寸圓形
•均勻性光束尺寸125mm圓
•UV光源UV LED
•光束波長365 nm
•光束均勻性<±3%
•365 nm強度 ~20 mW/?
•手動對準
•對準精度1 um
•操作模式軟、硬、真空接觸和接近
•工藝分辨率:1 um@1 um PR厚度,真空接觸
•尺寸(mm)800(寬)*800(深)*800(高)
MDA-600LJ
操作安裝方便,可處理各種尺寸的基板,采用UV-LED曝光模塊,UV-LED壽命長
•手動操作
•掩模版尺寸高達7英寸
•基板尺寸為6英寸圓形
•均勻光束尺寸170 mm圓
•UV光源:UV LED
•光束波長365 nm
•光束均勻性<±5%
•365 nm強度 ~20 mW/?
•手動對準
•對準精度1 um
•操作模式:軟、硬、真空接觸和接近
•工藝分辨率 1 um@1 um PR厚度,真空接觸
•重量(kg)150
•尺寸(mm)800(寬)*800(深)*800(高)



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