GC800/30錦正茂定制真空磁場退火爐

高溫（磁場）退火爐系統，可以在高溫和外加磁場條件下對需要處理的樣品進行退火處理。通過系統軟件，可以設定溫度和磁場變化曲線，從而實現所需的退火步驟。此系統操作簡單方便，可以輕松達到改善材料性能、改變材料中原子磁矩的方向和排布等目的。錦正茂定制真空磁場退火爐

磁場控制：用戶可以直接通過軟件設定所需要的磁場大小，由高精度高斯計讀取實際磁場值，再將實際讀出的磁場值反饋給高精度恒流電源，通過電源內部軟件處理后，直接由控制高精度恒流電源的輸出電流，從而實現用戶所需要的磁場，并實時顯示在軟件上。錦正茂定制真空磁場退火爐

溫度控制：通過在軟件上人機交互界面直接設置所需要的溫度值，計算機軟件處理后指令到達高溫爐加熱控制器。控制器通過溫度傳感器（熱電偶）讀出樣品區的實際溫度值，并通過其內部設置的模糊控制PID調節輸出電流的大小，總而使溫度值穩定在某一精度范圍內，從而實現用戶所需要的不同溫度。

真空環境：通過分子泵組獲得真空環境，由高真空全量程真空計顯示并監控，并實時的將檢測結果傳遞給計算機。

退火過程：在強磁場（或無磁）環境下對樣品進行加熱，加熱到一定溫度（用戶需要自己設定）并保持在該溫度，再持續加一個磁場（可隨時變化），達到用戶的目的后，關閉磁場，關閉加熱環境，冷卻到室溫。

樣品環境：高溫磁場加熱爐可以將被測樣品同時置于強磁場、高真空、高溫環境中。同時也可以單獨或任意組合這三種實驗環境，滿足不同樣品在不同環境下的測試要求。

主要技術指標：

※ 真空室及主要零部件材質均為304無磁不銹鋼；

※ 采用的真空獲得系統為分子泵組；真空測量為數顯全量程真空計；

※ 真空度及漏率：① 真空室極限真空度6′10-5Pa(冷態)；②漏率<10-11Pa.L/s，真空度隨著溫度變化，會出現波動，屬于正常情況；

※ 在室溫到900度，升溫速率優于100K/min，高溫加熱溫度1000℃；控溫精度：±1℃；

※ 加熱時，加熱絲被封裝在石英管內，極大程度的減少由于加熱絲的揮發造成樣品表面附著物的污染；

※ 匹配磁鐵電源：雙極性，穩定度優于50ppm/h，平滑過零無斷點；

※ 匹配電磁鐵：長時間運行穩定度<±0.5Gs；

※ 冷卻方式：水冷。