Edmund 近紅外 （NIR） 線性偏振膜 返回列表頁

Edmund 近紅外 (NIR) 線性偏振膜

特別適合 NIR 偏振應用

800 - 2200nm 下的消光比 >400:1

在各種波長范圍內均擁有高效率

采用耐用的聚合物基片

Edmund 近紅外 (NIR) 線性偏振膜由耐用的聚合物基片組成，特別適合從可見光到近紅外 (400 - 2200nm) 的成像應用。該偏振聚合物薄膜的平均透射率為 39%，在 760 和 2200nm 的入射隨機偏振光下的偏振效率大于 99.6%。多種矩形尺寸可用于容納從光束直徑較小的低功率 NIR 激光器到較大 LED 光束的所有光源。近紅外 (NIR) 線性偏振膜用于工業成像和實驗室應用，即減低輸出近紅外激光器和 LED 的強度，或減少近紅外光電檢測器記錄的圖像中的眩光。偏振軸標記在偏振聚合物膜的保護性擋板上。

注意:
在一次使用前，請移除保護罩。

對于許多光學應用而言，了解和操縱光的偏振至關重要。 光學設計經常關注光的波長和強度，而忽略其偏振。 然而，偏振是光的重要屬性，甚至影響那些未明確測量光的光學系統。 光的偏振會影響激光束的聚焦，影響濾光片的截止波長，并且對于防止有害的反向反射可能非常重要。 對于許多計量學應用來說，它是*的，例如玻璃或塑料中的應力分析，藥物成分分析和生物顯微鏡。 材料還可以不同程度地吸收不同的偏振光，這是LCD屏幕，3D電影和減少眩光的太陽鏡的基本屬性。

光是電磁波，并且該波的電場垂直于傳播方向振蕩。 如果該電場的方向隨時間隨機波動，則稱該光為非偏振光。 陽光，鹵素燈，LED聚光燈和白熾燈泡等許多常見光源都會產生非偏振光。

通用規格

產品信息