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    上海攸亦光電科技有限公司
    中級(jí)會(huì)員 | 第6年

    18861577951

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    平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)
    • 平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)
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    貨物所在地:上海上海市

    更新時(shí)間:2026-02-28 21:00:20

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    平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)
    制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長(zhǎng)的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試。刻劃?rùn)C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

    平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)


    平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)

    制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長(zhǎng)的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試。刻劃?rùn)C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。


    75l/mm @10.6μm


    100l/mm @10.6μm


    150l/mm @10.6μm


    300l/mm @300nm


    300l/mm @500nm


    300l/mm @1000nm


    300l/mm @3.5μm


    450l/mm @3.1μm


    600l/mm @250nm


    600l/mm @300nm


    600l/mm @400nm


    600l/mm @500nm


    600l/mm @750nm


    600l/mm @1000nm


    600l/mm @1250nm


    600l/mm @1600nm


    1200l/mm @250nm


    1200l/mm @300nm


    1200l/mm @400nm


    1200l/mm @500nm


    1200l/mm @750nm


    1200l/mm @1000nm


    1800l/mm @500nm


    特征

    材料:

    浮法玻璃

    表面光潔度:

    60-400

    尺寸誤cha:

    ±0.5 mm

    厚度公cha:

    ±0.5mm

    效率:

    60%~80% @閃耀波長(zhǎng)

    有效孔徑:

    90%

    損傷閾值:

    350mJ/cm2@200ns脈沖激光

    40W/cm2(CW)連續(xù)激光



    產(chǎn)品編號(hào)

    產(chǎn)品名稱

    尺寸

    刻線數(shù)

    閃耀波長(zhǎng)

    閃耀角

    378521

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    300Lines/mm

    300nm

    2°34'

    378522

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    300Lines/mm

    500nm

    4°18

    378523

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    300Lines/mm

    1000nm

    8°36'

    378531

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    600Lines/mm

    300nm

    5°9'

    378532

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    600Lines/mm

    400nm

    6°53'

    378543

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    600Lines/mm

    500nm

    8°37'

    378544

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    600Lines/mm

    750nm

    13°0'

    378545

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    600Lines/mm

    1000nm

    17°27'

    378546

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    600Lines/mm

    1250nm

    22°1'

    378547

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    600Lines/mm

    1600nm

    28°41'

    378554

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    1200Lines/mm

    250nm

    8°37

    378555

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    1200Lines/mm

    300nm

    10°22'

    378556

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    1200Lines/mm

    400nm

    13°53'

    378565

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    1200Lines/mm

    500nm

    17°27'

    378566

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    1200Lines/mm

    750nm

    26°44'

    378567

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    1200Lines/mm

    1000nm

    36°52'

    378568

    刻線式光柵 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

    50x50x9.5mm

    1800Lines/mm

    500nm

    26°44'



    制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長(zhǎng)的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試。刻劃?rùn)C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長(zhǎng)的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試。刻劃?rùn)C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長(zhǎng)的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試。刻劃?rùn)C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。


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