原子層沉積系統(tǒng)廠家

一、核心參數(shù)：  

價(jià)格區(qū)間：10萬(wàn)-50萬(wàn)  

產(chǎn)地類別：國(guó)產(chǎn)原子層沉積系統(tǒng)（ALD）  

襯底尺寸：4寸  

工藝溫度：RT-300℃  

前驅(qū)體數(shù)：4組液態(tài)或固態(tài)前驅(qū)體  

重量：40KG  

尺寸(WxHxD)：500*400*400mm  

均勻性：99.9%  

二、原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是通過(guò)將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔體內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種技術(shù)，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應(yīng)用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無(wú)針孔、高保形的納米薄膜。  

三、原子層沉積系統(tǒng)廠家產(chǎn)品描述：  

廈門(mén)韞茂科技公司研發(fā)的超小型桌式ALD原子層沉積設(shè)備是*材料研究的有力設(shè)備之一，它可以在4寸晶元（向下兼容）和微納米粉體上實(shí)現(xiàn)均勻可控的原子層沉積，具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，設(shè)各配有獨(dú)立控制的300℃完整加熱反應(yīng)腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻，該系統(tǒng)具有粉末樣品桶、晶元載盤(pán)，全自動(dòng)溫控制、ALD前驅(qū)體源鋼瓶、自動(dòng)溫度控制閥、工業(yè)級(jí)安全控制，以及現(xiàn)場(chǎng)RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設(shè)計(jì)選項(xiàng)，是*能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應(yīng)用的最佳研發(fā)工具  

四、廈門(mén)韞茂科技有限公司為您提供原子層沉積系統(tǒng)廠家的參數(shù)、價(jià)格、型號(hào)、原理等信息，產(chǎn)地為福建、品牌為韞茂，型號(hào)為MiniDesktopALD，價(jià)格為50萬(wàn)RMB，更多相關(guān)信息可咨詢，公司客服電話7*24小時(shí)為您服務(wù)。  

五、售后服務(wù)：  

保修期：1年  

是否可延長(zhǎng)保修期：否  

現(xiàn)場(chǎng)技術(shù)咨詢：有  

免費(fèi)培訓(xùn)：1.設(shè)備出廠前，提供至少2人一周的設(shè)備原廠培訓(xùn)。2.設(shè)備在現(xiàn)場(chǎng)完成安裝調(diào)試  

免費(fèi)儀器保養(yǎng)：有需要可安排  

保內(nèi)維修承諾：保修期內(nèi)（除天災(zāi)和人為損害外）部件、元件費(fèi)用、出差費(fèi)用均由我司承擔(dān)

報(bào)修承諾：質(zhì)保期內(nèi)出現(xiàn)故障時(shí)我司將及時(shí)響應(yīng)，并在8小時(shí)內(nèi)派技術(shù)人員到現(xiàn)場(chǎng)解決故障  

六、技術(shù)參數(shù)：