高真空磁控濺射鍍膜儀

外形尺寸

278(L)×494(H)×467(D) mm

濺射靶頭

平面磁控冷濺射靶頭

靶材尺寸

Φ50mm，厚度支持0.1-2mm

可用靶材

所有金屬、導電材料等靶材

工作電流

1-200mA可調（步長：1mA）

鍍膜時間

1-9999s可調（步長：1s）

真空泵

旋片泵（可選干泵）+分子泵

主真空泵抽速

90L/s

真空室

170(L)×150(H)×163.5(D) mm

一體加工金屬腔室

極限真空

≤5×10-3Pa

工作介質

高純氬氣

工作真空

0.5-1Pa可調

供電

AC220V/50Hz

額定功率

＜800W

預濺射

全自動預濺射清潔功能，配合預濺射擋板，防止樣品污染、提高鍍膜純度

樣品臺

Φ80mm，支持旋轉、升降及傾斜功能

其它

真空度、工作電流可實時曲線顯示