目錄:北京盈思拓科技有限公司>>電鏡樣品制備>>鍍膜儀>> INS-H12MC高真空雙靶磁控濺射鍍膜儀
| 參考價(jià) | 面議 |
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更新時(shí)間：2026-01-30 15:07:46瀏覽次數(shù)：96評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,綜合 |
?單靶濺射、雙靶共濺、交替濺射
?一鍵鍍膜，全自動(dòng)操作可編程自定義多層膜制備參
?多功能樣品臺(tái)支持旋轉(zhuǎn)、升降及傾斜功能
?一體成型真空室更優(yōu)真空性能
?配備防污染系統(tǒng)有效保護(hù)鍍膜組件
?進(jìn)口分子泵極限真空優(yōu)于5×10-3Pa
主要參數(shù) | |||
外形尺寸 | 278(L)×494(H)×467(D) mm | 濺射靶頭 | 雙磁控濺射靶頭 |
靶材尺寸 | Φ50mm，厚度支持0.1-2mm | 可用靶材 | 所有金屬、導(dǎo)電材料等 |
工作電流 | 1-200mA可調(diào)（步長(zhǎng)：1mA） | 鍍膜時(shí)間 | 1-9999s可調(diào)（步長(zhǎng)：1s） |
真空泵 | 旋片泵（可選干泵）+分子泵 | 主真空泵抽速 | 90L/s |
真空室 | 170(L)×150(H)×163.5(D) mm 一體加工金屬腔室 | 極限真空 | ≤5×10-3Pa |
工作介質(zhì) | 氬氣 | 工作真空 | 0.5-1Pa可調(diào) |
供電 | AC220V/50Hz | 額定功率 | ＜800W |
預(yù)濺射 | 全自動(dòng)預(yù)濺射系統(tǒng)，防止樣品污染及組件污染、提高鍍膜純度 | ||
樣品臺(tái) | Φ80mm，支持旋轉(zhuǎn)、升降及傾斜功能 | ||
其它 | 真空度、工作電流可實(shí)時(shí)曲線顯示 | ||
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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