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    目錄:北京德儀天力科技發展有限公司>>磁控濺射真空鍍膜系統>> DE5000 多腔體磁控濺射系統

    DE5000 多腔體磁控濺射系統

    • DE5000 多腔體磁控濺射系統
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    具體成交價以合同協議為準
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    • 品牌 其他品牌
    • 型號
    • 廠商性質 生產商
    • 所在地 北京市
    屬性

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    更新時間:2026-03-09 20:02:59瀏覽次數:9評價

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    DE5000 多腔體磁控濺射系統,直流、脈沖直流、射頻電源、HiPIMS電源,樣品可高溫加熱或低溫冷卻。

    DE5000 多腔體磁控濺射系統

    多個濺射腔室

    高真空濺射環境

    濺射室單源或多源

    直流、脈沖直流、射頻電源、HiPIMS電源

    樣品可高溫加熱或低溫冷卻

    優質薄膜質量及膜厚均勻性和重復性

    高精度鍍膜速率和膜厚控制

    強薄膜附著力

    LOAD LOCK

    等離子體清洗

    除氣處理

    樣品自動傳送

    PLC+PC全自動控制

    可沉積金屬、半導體、介質材料.

    可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜

    可做反應濺射

    用于研發和中試或量產

    可配備EFEM用于Fab百級凈化間、無人車間




    北京德儀天力科技發展有限公司專業生產PVD-磁控濺射設備、電子束蒸發薄膜沉積設備、熱蒸發薄膜沉積設備及提供相關產品的技術服務。

    設備主要用于大學院校、科研院所和生產企業的科學研究與量產,其在半導體、微電子、納米技術、量子科學、數據存儲、超導電子、光電及生物薄膜材料制備等研究和生產中發揮著核心作用。

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