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頤光科技閃耀慕尼黑上海光博會 以硬核技術擘畫光學量測新藍圖
2026年03月20日 17:26:16
來源：化工儀器網 作者：珙桐 點擊量：108
武漢頤光科技有限公司重磅亮相第二十一屆慕尼黑上海光博會，憑借精準高效的光學量測解決方案，贏得了現場觀眾與行業同仁的廣泛認可。
3 月 18 日，以 “光啟新元?勢引未來” 為主題的第二十一屆慕尼黑上海光博會于上海新國際博覽中心隆重開幕。本屆展會煥新升級，以超 10 萬平方米展示規模，匯聚全球 1400 余家行業領軍企業，打造集技術創新、成果轉化、產業協同于一體的頂級交流平臺，全方位呈現光電產業前沿技術成果，賦能中國光電產業向高端化、全球化縱深發展。武漢頤光科技有限公司(簡稱：頤光科技)攜多款明星產品、核心技術重磅參展，憑借精準高效的光學量測解決方案，贏得了現場觀眾與行業同仁的廣泛認可。
作為國內專注于高端光譜橢偏儀及相關光學量測設備研發、制造與銷售的高新技術企業，頤光科技十余載深耕光學量測領域，以自主創新為核心引擎，構建起覆蓋科學研究至工業應用的全鏈條產品矩陣。公司依托母公司上海精測半導體技術有限公司在半導體前道量檢測領域的技術積淀與產業資源，深化協同創新與技術融合，持續推進高端光學量測儀器國產化、產業化進程，致力打造用戶信賴的國產光學量測標桿品牌。
頤光科技展臺人潮涌動
本次展會上，頤光科技重磅展出了 ME-Mapping 光譜橢偏儀與 SR-Mapping 反射膜厚儀兩大明星產品，精準適配半導體、顯示面板、光通信、新能源等多領域量測場景需求。
ME-Mapping光譜橢偏儀
ME-Mapping光譜橢偏儀配置氘鹵燈復合光源，可覆蓋193-2500nm光譜波段，采用高精度雙旋轉補償器調制技術，實現Psi/Delta光譜數據的精準采集，支持2-12寸基片mapping掃描測量，快速表征膜厚均勻性；軟件內置豐富的材料數據庫與光學模型，保障了強大的數據分析能力，廣泛應用于集成電路、顯示面板、光學鍍膜及太陽能光伏等工業領域。
SR-Mapping反射膜厚儀
SR-Mapping基于反射干涉原理實現薄膜的非接觸、無損測量，依托光機電高度整合一體化設計，具有高精度、測量速度快等優點；支持薄膜、厚膜、單層及多層薄膜的測量和分析，測量精度高達0.02nm，兼容2到12寸樣品掃描測量，實現薄膜及襯底晶圓的二維厚度分布測量；廣泛應用于各種介質保護膜、有機薄膜、半導體薄膜及玻璃薄膜等測量場景。
從實驗室科研探索到工業規模化量產，頤光科技以核心技術突破，打破高端光學量測儀器長期依賴進口的格局，為中國精密制造與科技創新注入澎湃動能。未來，頤光科技將堅守 “先進橢偏測量引領者” 的定位，秉持 “掌握核心技術，推動國內精密光學分析儀器國際化” 的使命，持續迭代產品與服務，為客戶創造更高價值，助力中國光電產業在全球競爭中綻放更耀眼的光彩。
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