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    microMIRA 用于MicroLED應(yīng)用的高通量激光剝離技術(shù)

    具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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    岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司(Dymek Company Ltd ,下面簡稱岱美)總部設(shè)在中國香港,成立于1989年,是一間擁有多年經(jīng)驗(yàn)的高科技設(shè)備分銷商,主要為數(shù)據(jù)存儲、半導(dǎo)體、光通訊、高校及研發(fā)中心提供各類測量設(shè)備、工序設(shè)備以及相應(yīng)的技術(shù)支持,并與一些重要的客戶建立了長期合作的關(guān)系。自1989年創(chuàng)立至今,岱美的產(chǎn)品以及各類服務(wù)、解決方案廣泛地運(yùn)用于中國香港,中國大陸(上海、東莞、北京),中國臺灣,泰國,菲律賓,馬來西亞,越南及新加坡等地區(qū)。


    岱美在中國大陸地區(qū)主要銷售或提供技術(shù)支持的產(chǎn)品:

    晶圓鍵合機(jī)、納米壓印設(shè)備、紫外光刻機(jī)、涂膠顯影機(jī)、硅片清洗機(jī)、超薄晶圓處理設(shè)備、光學(xué)三維輪廓儀、硅穿孔TSV量測、非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測量儀、薄膜厚度檢測儀、主動及被動式防震臺系統(tǒng)、應(yīng)力檢測儀、電容式位移傳感器、定心儀等。


    岱美重要合作伙伴包括有:

    Thetametrisis, EVG, FSM, Opto-Alignment, Herz, PLSINTEC, Film Sense, Reditech, Lazin, Delcom, Microsense, Shb, boffotto, RTEC, Kosaka, Nanotronics, MTInc, 4D, Daeil, Microphysics,

    n&k Technology, First Nano, Schmitt, LESCO, Otsuka, STI, Kurashiki, Ryokosha, SURAGUS, Westbond...


    如有需要,請聯(lián)系我們,了解我們?nèi)绾伍_始與您之間的合作,實(shí)現(xiàn)您的企業(yè)或者組織機(jī)構(gòu)長期發(fā)展的目標(biāo)。






    膜厚儀,輪廓儀,EVG鍵合機(jī),EVG光刻機(jī),HERZ隔震臺,Microsense電容式位移傳感器

    產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
    應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子/電池,汽車及零部件,電氣,綜合

    microMIRA 激光剝離(LLO)系統(tǒng)可在高速加工條件下,實(shí)現(xiàn)晶圓上不同薄膜層高度均勻且無機(jī)械應(yīng)力的剝離。由于氮化鎵(GaN)基MicroLED通常利用藍(lán)寶石襯底與其相似的晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行外延生長,因此大多數(shù)GaN基MicroLED都生長在藍(lán)寶石上。然而,從藍(lán)寶石這類透明且昂貴的材料上進(jìn)行剝離是一項(xiàng)重大挑戰(zhàn),只有激光技術(shù)才能在保證合理生產(chǎn)效率的前提下實(shí)現(xiàn)這一工藝。microMIRA 激光系統(tǒng)特別適用于MicroLED顯示制造及半導(dǎo)體制造中,從玻璃和藍(lán)寶石襯底上剝離GaN層。

     

    亮點(diǎn)

    •無應(yīng)力且極速的線光束激光加工

    •基于熱-機(jī)械效應(yīng),實(shí)現(xiàn)無損傷加工

    •全自動系統(tǒng)

    •生產(chǎn)成本低

    •可集成相鄰制造工序,提升晶圓廠整體生產(chǎn)效率

     

    將藍(lán)寶石晶圓上的氮化鎵(GaN)通過激光剝離(LLO)轉(zhuǎn)移至石英、藍(lán)寶石或其他材料上
    適用于

    •microLED

    •miniLED

    •垂直結(jié)構(gòu) LED

    •LED

    基板尺寸

    •晶圓尺寸達(dá) 8” (200 mm)

    激光源與光路系統(tǒng)

    ·采用準(zhǔn)分子激光源,波長可根據(jù)客戶應(yīng)用需求選擇(例如248 nm)

    •在樣品表面的線光束尺寸:205 mm × 0.33 mm(適用于8英寸晶圓)

    吞吐量

    •每小時可處理60片8英寸藍(lán)寶石基GaN晶圓(包含工藝及上下料時間,具體產(chǎn)能取決于系統(tǒng)配置和客戶工件)

    定位系統(tǒng)

    •精精度直驅(qū)Y軸和Z軸(可選配θ旋轉(zhuǎn)臺)

    •Y軸:定位精度 ±5 µm,重復(fù)定位精度 ±1.5 µm

    •Z軸:定位精度 ±3 µm,重復(fù)定位精度 ±1.5 µm

    對準(zhǔn)

    •支持手動、半自動或全自動工件對準(zhǔn)

    •配備X、Y運(yùn)動系統(tǒng)及光學(xué)測量系統(tǒng)

    •自動Z軸定位與表面形貌測繪

    microMMI 軟件

    •控制并監(jiān)控所有硬件組件及加工參數(shù)

    •多級用戶權(quán)限(管理員、主管、操作員)

    •數(shù)據(jù)輸入文件格式:DXF、CSV、Gerber、CLI,其他格式可按需提供

    選配項(xiàng)

    •光束分析與功率測量模塊

    •解鍵合模塊

    •質(zhì)量檢測模塊

    •清洗模塊

    •最多支持4個SMIF載片端口

    •其他輔助模塊可根據(jù)需求提供

    標(biāo)準(zhǔn)

    •符合激光1類安全標(biāo)準(zhǔn)的防護(hù)外殼,集成控制面板

    •配備認(rèn)證激光觀察窗或全景攝像頭(網(wǎng)絡(luò)攝像頭)

    •潔凈室等級要求:上下料及正面區(qū)域 ISO 3,剝離工藝區(qū)及激光光路系統(tǒng) ISO 5

    •可選配主動式排風(fēng)系統(tǒng)

    系統(tǒng)尺寸 尺寸:6,500 mm × 5,700 mm × 2,200 mm(含上下料系統(tǒng)和激光源)

     

     



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